3月23日，国家知识产权局专利管理司、专利局审查业务管理部、实用新型审查部、自动化部、专利复审委员会相关处室负责人来鄂，就中国武汉(光电子信息产业)知识产权保护中心和中国武汉(汽车及零部件产业)知识产权快速维权中心(以下简称：“两中心”)筹建及我省光电子信息和汽车及零部件产业发展情况进行调研。

　　调研组参观了武汉光电工研院和东风商务车公司，并与企业座谈，听取企业运营发展、技术创新、维权保护方面需求，重点了解企业专利创造、保护和运用等情况，对位于武汉市常青路164号武汉科技大厦12层和东风大道88号武汉市经济技术开发区管委员C区拟定“两中心”办公场所进行实地考察，并就办公场地装修、机房用地保障等方面提出了意见。

　　调研组与省知识产权局、武汉市政府、武汉市知识产权局、武汉经开区管委会及相关部门单位代表座谈交流。省知识产权局党组成员、副局长程浩同志主持座谈会，武汉市知识产权局副局长陈保国、武汉经开区知识产权工作中心主任邓世彪分别汇报了光电子信息产业保护中心和汽车及零部件产业快速维权中心筹备工作进展情况，并就“两中心”批复设立后的下一步工作开展提出具体举措。武汉市政府副秘书长方洁受市政府委托，介绍了武汉市的8大产业，特别是光电子信息和汽车及零部件产业概况，对武汉市知识产权工作进行汇报，并表达积极支持“两中心”建设，恳请“两中心”落户湖北武汉的愿望。程浩同志表示：专利在企业创新发展起到重要支撑作用，但同时企业在专利申请、确权、维权、导航、运营中还面临各种困难和问题，希望国家知识产权局能尽快在湖北武汉建立“两中心”，开展知识产权协同保护工作，以促进我省企业创新产业发展。调研组介绍了全国各地保护中心申报和设立情况，对湖北

　　“两中心”筹备工作给予了充分肯定，并就保护中心建成后所承担的快速审查、快速确权、快速维权、协同保护、专利导航运营、复审无效、评价报告等工作职责作了简要说明，对湖北“两中心”建设工作在人员、场地、设备、审查、保密与安全等方面提出具体要求。

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